회사 측은 이 특허를 활용하면 혼합가스의 집중 현상을 방지하고 기판을 향해 고루 분사해 공급할 수 있어 균일한 증착막을 형성하는데 기여할 수 있다고 설명했다. 이를 통해 증착 효율성을 향상시킬 수 있다고 덧붙였다.
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회사 측은 이 특허를 활용하면 혼합가스의 집중 현상을 방지하고 기판을 향해 고루 분사해 공급할 수 있어 균일한 증착막을 형성하는데 기여할 수 있다고 설명했다. 이를 통해 증착 효율성을 향상시킬 수 있다고 덧붙였다.