[컨슈머타임스 민경갑 기자] 5일 오전 11시 26분경 경기도 이천시 부발읍 SK하이닉스 공장 D램 반도체 공정라인에서 이산화규소 가스가 누출돼 작업자 2명이 병원 치료를 받았다.

사고는 반도체 공정에 필요한 가스 공급배관 이음새에 생긴 틈으로 가스가 누출되면서 발생했다.

이천소방서 관계자는 "부상자 2명은 두통과 구토 증세를 보였지만 의식이 있고 걸어서 병원에 들어가는 등 심각한 상태는 아닌 것으로 확인됐다"며 "작업장에 함께 있던 나머지 39명은 특별한 증세는 없지만 검진 차원에서 병원을 방문한 상태"라고 설명했다.

또 "이산화규소는 반도체 공정에 들어가는 불산이나 실란가스와 같이 인체에 치명적인 유해성은 없는 것으로 알려져 있다"고 덧붙였다.

부상자가 옮겨진 병원 관계자는 "부상자 2명은 진료 결과 특이사항이 발견되지 않아 병원 방문 후 30여분 만에 귀가조치했다"고 말했다.

하이닉스 공장측은 사고 직후 부상자를 병원에 옮긴 뒤 가스 공급배관 이음새를 교체해 오후 1시 20분경 조치를 완료했다.

소방당국은 정확한 사고 경위를 조사하고 있다.

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